AMC在線監(jiān)測空氣分子污染的實時監(jiān)測對于半導體生產(chǎn)過程非常重要。快速監(jiān)視，警報，低濃度測量，寬測量范圍以及對多種氣體的高度敏感響應是半導體行業(yè)的要求。深紫外光刻工藝特別注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的濃度測量。當這些氣體與化學放大的光致抗蝕劑反應時，它們會嚴重影響半導體器件的質(zhì)量。傳統(tǒng)的古代方法大多使用間接測量和分析方法，包括沖擊濾池，離子色譜法，化學熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復雜，價格昂貴且測量結(jié)果不準確。
 

　　AMC在線監(jiān)測技術解決了AMC（空氣分子污染物）監(jiān)測的問題，該監(jiān)測可以快速測量NH3，HCL，HF的痕量水平，使用脈沖熒光測量SO2，并使用增強的GC-FID測量VOC。3100S系列空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)可測量NH3，HCL，HF的痕量水平，并整合了uVOC-CAM的特性。它是用于半導體行業(yè)中潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的強大工具。

　　AMC在線監(jiān)測還集成了一個多點監(jiān)測系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以按順序?qū)怏w泵送到分析儀或傳感器，并讀取測量結(jié)果。3100S內(nèi)嵌的警報，報告和分析軟件是由在半導體行業(yè)具有多年經(jīng)驗的工程師共同開發(fā)的。使用以太網(wǎng)，RS485/RS232或4-20mA模擬量模塊從4?6個分析儀或傳感器輸出數(shù)據(jù)。每臺分析儀均配有用于數(shù)據(jù)存儲和數(shù)據(jù)輸出的內(nèi)置計算機，還支持遠程網(wǎng)絡控制，操作或診斷。